化學鍍鎳是以鎳鹽和次磷酸鹽等共同作用的表面處理技術，被廣泛的用于化學工業(yè)、石油工業(yè)、采礦工業(yè)和汽車工業(yè)等領域?；瘜W鍍鎳是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沉積在固體基態(tài)表面上，鍍液一般以硫酸鎳、乙酸鎳等為主鹽，次亞磷酸鹽、硼氫化鈉、肼等為還原劑，目前工業(yè)上應用比較普遍的是以次亞磷酸鈉為還原劑的化學鍍鎳工藝，該工藝的反應機理是原子氫理論，該理論認為是H2PO2-催化脫氫產(chǎn)生原子氫并還原鎳離子。
隨著化學鍍的反應時間延長，化學鍍液會因周期變長而降低性能，逐漸變成廢液，其中含有大量的金屬鎳、高濃度的COD、氨氮、亞磷酸鹽以及次磷酸鹽。其中含量較高的次磷酸根和亞磷酸根離子，會引起水體富營養(yǎng)化，造成環(huán)境污染。
目前，化學鍍鎳廢水主要采用化學沉淀法、離子交換法、膜分離及吸附法進行處理。但離子交換法，膜分離及吸附法存在運行操作技術要求高，膜易受污染以及離子交換劑飽和再生等因素，大范圍的推廣應用受到了限制。
通常情況下，針對含磷廢水采用氧化沉淀法去除，因化學鍍廢水中次亞磷酸鹽由于溶度積較高，直接投加Ca和Fe離子對其沉淀效果較差，將其氧化為正磷酸根再去除，如Fenton法，但該法氧化不完全，次亞磷去除效率低。
《污水綜合排放標準》(CB 8978-1996)中明確限定磷酸鹽的排放限值應低于0. 5 mg / L ，而化學鍍廢水中次亞磷酸鹽含量高，HMC-P3次亞磷去除劑是新型除磷技術，其采用均相共沉淀技術，與廢水中的次亞磷酸鹽直接結合生成不溶性的沉淀，直接去除達標。
本文在化學沉淀的基礎上，探討了HMC-P3去除廢水中次亞磷，及其實驗方法。該工藝具有工藝簡單、成本低、污泥少等特點，不僅能有效去除廢水中的次亞磷酸鹽，還可以除重金屬、降低COD。
一、 實驗方法
1、操作步驟
1) 調節(jié)廢水pH；
2) 按照計算好的用量依次加入HMC-P3/雙氧水，攪拌反應30min；
3) NaOH回調pH，攪拌均勻；
4) 每升水加入0.1% 的PAM溶液5ml，緩慢攪拌約2min；
5) 停止攪拌，上清液過濾測總磷；
二、 注意事項
1) pH控制以pH計為準，不可使用pH試紙代替；
2) HMC-P3可直接投加，也可配成10-20%的乳液；
3) 加入0.1%的非離子PAM應提前配制，攪拌30min至充分溶解后使用；
4) 若固液分離采用沉淀工藝，應沉淀2h以上；
5) 對于化學鍍鎳廢水中的次亞磷，如果需要除磷除鎳，那么在進行設計時，可以先除磷，再除鎳，通過沉淀除磷以后，將出水pH調節(jié)至堿性，再添加高效除鎳劑HMC-M2進行螯合反應，鎳磷均可達標。
三、實驗結果
廢液原水
處理結果
四、結論
1)HMC-P3處理化學鎳含磷廢水時，在PH、反應時間等的最佳條件下，亞磷酸鹽的去除率分別達到96%，達到預處理的預期目的。
2)實驗結果以水樣為準，實際運用當中，要評估廢水濃度，制定方案確定反應條件與HMC-P3投加量。
