規(guī)格參數(shù)
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型號 |
VNP-200MX-M/C 30 |
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分辨率(H × V) |
7920 × 6004 |
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傳感器 |
AMS CMOSIS CMV 50000 |
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靶面尺寸 |
36.43mm×27.62mm （對角線：45.72mm，光學規(guī)格：35mm） |
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傳感器類型 |
高速CMOS感光芯片 |
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像元尺寸 |
4.6μm × 4.6μm |
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接口 |
CoaXPress |
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最大 幀率 |
47.5 MP |
1CH: 7.7 fps @ 6.25 Gbps 2CH: 15.5 fps @ 6.25 Gbps 4CH: 30.9 fps @ 6.25 Gbps |
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190 MP |
1CH: 2 fps @ 6.25 Gbps 2CH: 3.9 fps @ 6.25 Gbps 4CH: 7.7 fps @ 6.25 Gbps |
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427 MP |
1CH: 1 fps @ 6.25 Gbps 2CH: 1.7 fps @ 6.25 Gbps 4CH: 3.4 fps @ 6.25 Gbps |
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曝光時間（步長1μs） |
1 μs - 60 s |
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局部掃描（最大速度） |
3968 fps @ 4行 |
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像素數(shù)據(jù) 格式 |
黑白 |
Mono 8 / Mono 10 / Mono 12 |
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彩色 |
BG Bayer 8 / BG Bayer 10 / BG Bayer 12 |
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曝光方式 |
全局曝光 |
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曝光模式 |
Free-Run（連續(xù)采集），定時和觸發(fā)寬度 |
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動態(tài)范圍 |
64 dB |
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增益控制 |
1× ~ 30× (步長1/1024) |
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黑電平控制 |
0 ~ 256 LSB @12 bit (步長1 LSB) |
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移位范圍 |
0 ~ 7.5μm, 步長1 nm |
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移位分辨率 |
0.001μm |
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移位控制 |
順序模式（mono4, mono9, mono2H, mono2V, bayer4, bayer16） |
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制冷方法 |
帕爾貼熱電制冷 |
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制冷性能 |
低于環(huán)境溫度11度——使用風扇進行標準制冷 |
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尺寸/重量 |
90mm × 90mm × 191 mm,1920g |
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工作溫度 |
-5℃ ~ +40℃ |
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儲存溫度 |
-40℃ ~ +70℃ |
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鏡頭接口 |
F口，可根據(jù)要求定制接口 |
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供電要求 |
外部 |
10~24 V DC, Typ. 26.0 W |
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PoCXP |
不支持 |
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認證 |
CE, FCC, KC |
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API SDK |
Vieworks Imaging Solution 7.X |
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規(guī)格參數(shù)
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型號 |
VNP-190MX-M/C 10 |
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分辨率 (H × V) |
1×模式 |
8856 × 5280, 46.8M |
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4×模式 |
17712 × 10560, 187.0M |
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傳感器 |
ON Semiconductor KAI-47051 |
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靶面尺寸（對角線） |
56.7 mm |
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傳感器類型 |
逐行掃描行間轉(zhuǎn)移CCD |
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像元尺寸 |
5.5μm × 5.5μm |
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接口 |
CoaXPress |
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最大 幀率 |
1×模式 |
10.0 fps @ 46.8M (8856 × 5280) |
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4×模式 |
2.5 fps @ 187.0M (17712 × 10560) |
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曝光時間（步長10μs） |
28 μs - 60 s |
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局部掃描（最大速度） |
24 fps @ 1056行 |
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像素數(shù)據(jù)格式 |
8 / 10 / 12bit |
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曝光方式 |
全局曝光 |
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Binning |
2×, 4× |
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曝光模式 |
Free-Run（連續(xù)采集），定時和觸發(fā)寬度 |
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動態(tài)范圍 |
66 dB |
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移位范圍 |
0 ~ 15μm, 步長1 nm |
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移位分辨率 |
0.001μm |
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移位控制 |
手動模式或順序模式（黑白相機：4/9次移位拍攝；彩色相機：4/16/36次移位拍攝） |
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移位延遲 |
< 5 ms |
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制冷方法 |
帕爾貼熱電制冷 |
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制冷性能 |
低于環(huán)境溫度14度——使用風扇進行標準制冷 |
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尺寸/重量 |
120mm × 94mm × 171 mm, 2300g |
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工作溫度 |
10℃ ~ +40℃ |
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儲存溫度 |
-40℃ ~ +70℃ |
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鏡頭接口 |
M72口，可根據(jù)要求定制接口 |
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供電要求 |
11~15 V DC, Typ. 36.0 W |
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認證 |
CE, FCC, KC |
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API SDK |
Vieworks Imaging Solution 7.X |
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