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GC系列機床以加工軸類、齒輪零件為主，對于某些特殊工件亦可加工。適應于與高頻、超音頻、中頻，晶體管高頻電源配套，機床采用噴液冷卻方式。有機械和液壓兩種傳動方式；有PLC、觸摸屏與CNC等控制方式，主要用于淬火，亦可用于退火或焊接工序。具有手動、自動功能。

具有上下裝夾功能；具有軸類、盤類、單段、多段、斷續(xù)、連續(xù)等淬火功能。
淬火機床性能特點：

1）、升降采用伺服電機驅動，定位由數字輸入控制，達0.01mm，速度調節(jié)范圍大。機床升降采用精密滾珠絲桿，傳動平穩(wěn)。主導柱采用半圓形導軌結構，不生銹，無變形，保證機床耐用。2）、上升降采用電機控制，可根據工件長度方便調整。為保證工件正常旋轉，可以采用裝夾臺。

3）、旋轉速度可在控制面板上數字化直觀調整，能根據工件大小及淬火工藝的要求實現無極調節(jié)，滿足高精度調節(jié)需求，從而達到的淬火效果，實現淬火質量的。

4）、采用噴淬冷卻，機床下方留有300毫米高水箱，無需另配水箱，減小安裝工作量。

面板直接輸入和控制。能存儲多種程序，調用程序方便，特別適用于多段、變速等復雜工藝要求及工件種類較多的情況。

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PCVD法沉積溫度低，膜基結合力及工藝繞鍍性均較PVD法有較大改進，但與擴散法相比，膜基結合力仍有較大差距，此外由于PCVD法仍為等離子體成膜，雖然繞鍍性較PVD法有所改善，但無法消除。由擴散法金屬碳化物覆層技術形成的金屬碳化物覆層，與基體形成冶金結合，具有PVPCVD無法比擬的膜基結合力，因此該技術真正能夠發(fā)揮超硬膜層的性能優(yōu)勢，此外，該技術不存在繞鍍性問題，后續(xù)基體硬化處理方便，并可多次重復處理，使該技術的適用性更為廣泛。

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