.jpg "鑫有研光刻機(jī)（lithography）掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)")
| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 鑫有研 | ||
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光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。
常見(jiàn)光源分為:
可見(jiàn)光：g線：436nm
紫外光（UV），i線：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 準(zhǔn)分子激光：248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
