華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ,主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用,也適合于工廠批量生產(chǎn),掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā),熱蒸發(fā),磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中,用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池,光電探測器,場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品,具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后,才能正式報(bào)價(jià)。
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板,此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用,適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用,優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),制造的掩模板平整度高、精度高,利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移,適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實(shí)驗(yàn)室。
掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形,用光刻機(jī)在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形,將不需要的金屬層和膠層洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細(xì)圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計(jì)好的圖案,通過透光與非透光方式進(jìn)行圖像(電路圖形)復(fù)制,從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。