設(shè)備尺寸：
設(shè)備名稱 OTFC-1550CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
工件架 φ1400mm
工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)
光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀
波長(zhǎng)范圍：350nm to 1100nm
反射式/透射式
水晶式膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器
蒸發(fā)源 電子槍2套
離子源 17cmRF離子源
機(jī)械性能：
排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或2個(gè)冷凝泵）
達(dá)到壓力 7.0×10-5 Pa 以下
排氣時(shí)間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)
基板溫度 ：350℃
工作條件：
設(shè)備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)
電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA
水流量 180升/分以上
空氣壓力 0.5MPa以上
重量 約10000kg
適用于L ED用光學(xué)薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學(xué)薄膜形成裝置
