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納米光電子設(shè)備采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地擴(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。
新一代激光直寫光刻設(shè)備特點(diǎn)
具有核心知識產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)激光直寫設(shè)備
具有超越衍射極限的加工能力
納米光電子設(shè)備可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。
一、激光直寫系統(tǒng)的工作原理
激光直寫系統(tǒng)是一種利用激光束直接刻寫三維結(jié)構(gòu)的制造方法，其基本工作原理如下：
首先，計算機(jī)輔助設(shè)計（CAD）軟件將所需制造對象的三維模型轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號，并發(fā)送給該產(chǎn)品的控制器。
然后，激光束聚焦到極小尺寸（通常小于1微米），通過掃描控制器按照預(yù)定軌跡精確地切割或燒蝕材料表面。此時，激光束強(qiáng)烈的能量密度使得原材料表面發(fā)生物理、化學(xué)反應(yīng)，形成被切割、燒蝕的結(jié)構(gòu)。
最后，重復(fù)以上步驟，直到制造對象的所有部分都被刻寫完成。整個過程由計算機(jī)程序控制，可以自動化操作。
納米光刻技術(shù)
http://www.huaweina.cn/Products-37611932.html
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