納米氧化鉍高剪切分散機(jī)
三氧化二鉍納米粉體可以很好的分散于極性烴類溶劑中如 NMP (N-甲基吡咯烷酮) 、PMA (丙二醇甲醚醋酸酯)；非極性溶劑中如：礦物油；同時(shí)也可以分散于質(zhì)子性溶劑中如:alkoxyethers,分散時(shí)可達(dá)50%的濃度。
三氧化二鉍納米有機(jī)溶劑分散體，可確保應(yīng)用于各種有機(jī)溶劑體系，具有廣泛的適用性與易用性。
納米氧化鉍分散液圖片：
納米氧化鉍有什么應(yīng)用
納米氧化鉍主要用于化工行業(yè)（如化學(xué)試劑、鉍鹽制造等）、玻璃行業(yè)（主要用于著色）、電子行業(yè)（電子陶瓷等）以及其他行業(yè)（如防火紙的制造、核反應(yīng)堆燃料等）。其中，電子行業(yè)是氧化鉍應(yīng)用*廣的行業(yè)，主要用在壓敏電阻、熱敏電阻、氧化鋅避雷器以及顯象管等領(lǐng)域。如果從材料來(lái)分，氧化鉍主要用于電子陶瓷粉體材料、電解質(zhì)材料、光電材料、高溫超導(dǎo)材料、催化劑等。電子陶瓷粉體材料電子陶瓷領(lǐng)域是氧化鉍應(yīng)用的一個(gè)成熟而又充滿活力的領(lǐng)域。氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑，純度一般要求在99.5%以上。主要應(yīng)用對(duì)象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類。
納米氧化鉍分散用什么分散機(jī)
納米氧化鉍要得到好的應(yīng)用需要兩個(gè)方面：一是提高生產(chǎn)工藝和設(shè)備，細(xì)度要求很高（D＜50nm）；二是在分散時(shí)需要分散均勻，防止納米顆粒抱團(tuán)；上海依肯高剪切分散機(jī)XRS2000是國(guó)產(chǎn)分散機(jī)**的選擇。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號(hào)表供參考：
|
型號(hào) |
標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H |
輸出轉(zhuǎn)速 rpm |
標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s |
馬達(dá)功率 KW |
進(jìn)口尺寸 |
出口尺寸 |
|
XMD2000/4 |
400 |
18000 |
44 |
4 |
DN25 |
DN15 |
|
XMD2000/5 |
1500 |
10500 |
44 |
11 |
DN40 |
DN32 |
|
XMD2000/10 |
4000 |
7200 |
44 |
22 |
DN80 |
DN65 |
|
XMD2000/20 |
10000 |
4900 |
44 |
45 |
DN80 |
DN65 |
|
XMD2000/30 |
20000 |
2850 |
44 |
90 |
DN150 |
DN125 |
|
XMD2000/50 |
60000 |
1100 |
44 |
160 |
DN200 |
DN150 |
納米氧化鉍高剪切分散機(jī)
