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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
蘇州創(chuàng)新水業(yè)CX系列CEDI高純水處理設(shè)備、EDI超純水設(shè)備、工業(yè)高純水機(jī)
蘇州創(chuàng)新水業(yè)CX系列CEDI高純水處理設(shè)備、EDI超純水設(shè)備、工業(yè)高純水機(jī)
產(chǎn)品價(jià)格:¥50000
上架日期:2011-09-19 13:51:13
產(chǎn)地:蘇州
發(fā)貨地:蘇州
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    CEDI高純水處理設(shè)備


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    一、CEDI法去離子水設(shè)備工作原理:
       EDI(Electrodeionization)是利用離子交換樹(shù)脂來(lái)去除水中的離子。在EDI設(shè)備中,進(jìn)水中的各種離子通過(guò)樹(shù)脂層交換后被脫除,水得到了純化。此時(shí)是利用離子交換原理脫除水中的離子。由于膜對(duì)兩邊加有電壓,水分被電解為氫氧根和氫離子去再生樹(shù)脂,同時(shí),被氫離子和氫氧根離子交換下的離子在電流的作用下,被遷移至濃水室而排放,從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生連續(xù)使用的目的。
       1) 進(jìn)水分布EDI模塊中各室。
       2) 在直流電作用下各種離子,向各自相應(yīng)電極遷移。
       3) 與混床一樣,水中的各種離子被離子交換樹(shù)脂所交換,然后被交換的離子通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到濃水室中。淡水室中的水流出EDI模塊(只有離子可通過(guò)離子交換膜,而水不能通過(guò))而成淡水。
       4) 濃水室中的濃水循環(huán)。為提高和維持濃水室的電導(dǎo),大部分濃水進(jìn)行循環(huán)。 
       5) 循環(huán)的濃水需少部分排放,由進(jìn)水補(bǔ)充。此部分排放濃水可返回至前級(jí)RO裝置,重復(fù)使用。
       6) 水分子在電壓作用下被電離為氫離子和氫氧根離子,通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到樹(shù)脂層,連續(xù)再生樹(shù)脂。

    二、CEDI高純水制取設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)
      連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定;無(wú)許用酸堿再生;不會(huì)因再生而停機(jī);節(jié)省了反洗和清洗用水;產(chǎn)水率高達(dá)95%;無(wú)再生污水,無(wú)須污水處理設(shè)施;無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和稀釋設(shè)備;占地面積?。皇褂冒踩?,避免工人接觸酸堿。投資僅為離子交換的30%。運(yùn)行成本僅為離子交換的65%。
      1、無(wú)化學(xué)污染;
      2、可連續(xù)再生;
      3、啟動(dòng)/操作方便;
      4、模塊更換方便;
      5、產(chǎn)水純度更高;
      6、回收率更高;
      7、占地面積更小;
      8、節(jié)約成本。
     
      CEDI與傳統(tǒng)離子交換混床相比最大缺點(diǎn)是整體成本高,因其進(jìn)水水質(zhì)必須以反滲透為原水,而且EDI膜堆的成本大大高于混合交換器。


    三、應(yīng)用領(lǐng)域
    1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
    2. 超純材料和超純化學(xué)試劑;
    3. 實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
    4. 汽車、家電表面拋光處理;
    5. 其他高科技精微產(chǎn)品。
    6. 電化學(xué)及介面研究用水
    7. 有機(jī)物分析用水
    8. 高精密光學(xué)鏡片沖洗用水
    9. 環(huán)境、環(huán)保實(shí)驗(yàn)分析用水
    10. 高分子實(shí)驗(yàn)用水
    11. 微電子行業(yè)各種部件的清洗用水
    12. 精密電鍍用水
    13. 大專院校、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)用水
    14.電池補(bǔ)充用水,用于叉車電瓶加水,汽車電瓶加水;
    15.鋰電池行業(yè),節(jié)能燈行業(yè)使用。

    四、組件的進(jìn)水要求及性能參數(shù)

    進(jìn)水總鹽量(CaCO3計(jì)) <25ppm或50μs/cm TOC <0.5ppm
    PH值 5.0~9.0
    余氯 <0.05ppm
    硬度(CaCO3計(jì)) <2.0ppm
    Fe、Mn、H2S <0.01ppm
    可溶硅 <0.5ppm 工作溫度 5~40℃
    工作壓力 1.0~2.0bar 工作壓差 0.4~1.0bar
    水利用率 >95%
    產(chǎn)水水質(zhì) >15MΩ.cm
    蘇州創(chuàng)新水處理公司提供1-200T/H EDI高純水設(shè)備

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