附著力實(shí)質(zhì)是界面間的作用力,是有機(jī)涂層與基體間通過物理和化學(xué)作用結(jié)合在一起的牢固程度,它主要包括兩方面內(nèi)容:有機(jī)涂層與金屬基體間相互結(jié)合的能力及有機(jī)涂層分子間交聯(lián)的程度.
涂層與基體間的結(jié)合力越大越好,涂層中有機(jī)溶劑揮發(fā)的越徹底,分子間的交聯(lián)就越穩(wěn)定,形成的涂層漆膜就越致密牢固,腐蝕介質(zhì)就不容易侵蝕基體底部.
如果金屬及金屬鍍 層表面附著力較弱, 則復(fù)合上去的復(fù)合層比較容易剝落而分層, 這就容易導(dǎo)致質(zhì)量問題, 從而引起客戶的投訴, 最終影響公司的形象。
為了提高、保證金屬涂層的質(zhì)量, 伯東客戶經(jīng)過我司推薦采用KRI 考夫曼離子源 EH 3000 安裝于生產(chǎn)設(shè)備中, 大大提高了金屬涂層附著力和提高生產(chǎn)率.
霍爾離子源是陽(yáng)極在一個(gè)強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的協(xié)作下將工藝氣體等離子化. 這個(gè)軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束. 由于軸向磁場(chǎng)的作用太強(qiáng), 霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流. 常見的中和源就是鎢絲（陰極）.
KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
? 水冷 - 加速冷卻
? 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
? 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
伯東 KRI霍爾型離子源eH 3000用于提高金屬涂層附著力案例: 國(guó)內(nèi)某知名金屬涂層制造商
1. 離子源應(yīng)用: 金屬涂層
2. 離子源: 采用美國(guó)KRI 考夫曼離子源 KRi
EH 3000. 離子源 EH
3000所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋蒸鍍機(jī)中大范圍的載具
(substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到最高生產(chǎn)效能.
3. 離子源功能: 通過 KRI EH 3000 霍爾源實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD
及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的燈具無論是環(huán)境脫膜測(cè)試, 耐刮測(cè)試, 膜層應(yīng)力測(cè)試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.
EH 3000 離子源本體
EH
3000 離子源控制器
上海伯東是美國(guó)KRI 考夫曼離子源
Kaufman & Robinson, Inc 中國(guó)總代理. 美國(guó)KRI
考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜.
KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI
考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI
考夫曼離子源.
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