久久精品aⅴ无码中文字字幕重口,蜜桃久久久电影,欧美最猛,日韩天天射

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積鋁錳合金薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射沉積 MnZn 鐵氧體薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射制 TiSiN-Ag 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 Ti-B-C 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備微晶硅薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積立方氮化硼薄膜

KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用

美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用