英國知名品牌磁控離子濺射鍍膜儀是一款優(yōu)化設(shè)計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備, 真空度可達5x10-5mbar. 可以濺射具有超細成膜顆粒的易氧化金屬, 適用于高分辨率成像. 同樣地, 低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜.
伯東 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80 應(yīng)用于磁控離子濺射鍍膜儀
上海伯東德國普發(fā) Pfeiffer 真空泵 HiPace 80優(yōu)點：
1.抽速可達到 71 l/s 高性能渦輪分子泵.
2.真空泵 HiPace 80 對所有氣體的高抽速和極高壓縮比使其廣泛應(yīng)用于真空行業(yè).
3.集成驅(qū)動電路, 適用于工業(yè)環(huán)境.
4.通過保護等級 IP54, 半導(dǎo)體 S2, UL / CSA 認證.
5.通過控制器監(jiān)控運算數(shù)據(jù)保證分子泵的最高安全性.
6.渦輪分子泵 HiPace 80 可以任意位置安裝.
7.自然風(fēng)冷.
8.多種配件可選滿足廣泛應(yīng)用.
與友廠對比,上海伯東德國 Pfeiffer 復(fù)合軸承分子泵 HiPace 系列,對小分子氣體擁有更高的抽速和更大壓縮比.
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型號 |
抽速 L/S |
壓縮比 |
極限真空度 hPa |
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N2 67 |
N2 > 1 X1011 |
< 1X10–7 |
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N2 260 |
N2 > 1 X1011 |
< 1X10–7 |
上海伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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