KRI 離子源作為一種新的材料加工技術(shù), 用于真空環(huán)境中以沉積薄膜, 干法蝕刻納米結(jié)構(gòu)并改變表面性能. KRI 離子源的應(yīng)用穩(wěn)步增長. 隨著人們對離子束工藝優(yōu)點的認識不斷提高, 工藝工程師和研究人員已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源的情況下是無法實現(xiàn)的.
KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標準的過程中, 在各個行業(yè)中都發(fā)揮著重要作用:
1.鍍膜行業(yè). KRI 離子源精確的薄膜控制, 厚度為幾個單層的薄膜.
2. 半導體. 金屬涂層可重現(xiàn)的附著力, 可用于高產(chǎn)剝離工藝.
3.輔助刻蝕. KRI 離子源輔助蝕刻均勻性和臨界尺寸, 蝕刻后的晶片具有均勻性和臨界幾何尺寸.
4. 顯示器. KRI 離子源輔助顯示器鍍膜, 可以更好表面修飾和紋理化, 以放大表面功函數(shù).
5. 運用 KRI 離子源輔助精密光學器件鍍膜, 具有優(yōu)化的折射率和低吸收率的致密且穩(wěn)定的薄膜.
6. 磁性數(shù)據(jù)存儲. 金屬和電介質(zhì)多層堆疊中的納米特征的各向異性和均勻蝕刻.
7. KRI 離子源用于鏡片鍍膜. 高通量制造可粘附在塑料鏡片上的耐用增透膜.
8. KRI 離子源用于醫(yī)療設(shè)備, 表現(xiàn)出可設(shè)計的生物活性的堅硬且耐腐蝕的有機涂層.
9. KRI 離子源用于光子學和激光, 可得到平滑, 低散射和光學純凈的膜, 具有較高的激光誘導損傷閾值.
除了以上領(lǐng)域, KRI 離子源還運用更廣泛的領(lǐng)域.
KRI 離子源提供了超過25年商業(yè)離子, 等離子和電子源設(shè)備的許可協(xié)議, 與它的客戶, 誰制造和銷售的產(chǎn)品. 2002年, KRI 修改了業(yè)務(wù)模式, 并憑借自己的離子, 等離子體和電子源產(chǎn)品進入了市場. KRI 離子和電子源設(shè)計取得了巨大的商業(yè)成功, 通過授權(quán)客戶運送了3500多個離子源.
KRI 離子源是領(lǐng)域公認的領(lǐng)導者, 我們已獲得許多專利.
伯東公司為 KRI 離子源大中國區(qū)總代理.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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