常用的固體潤滑劑MoS2涂層蒸氣氣壓低、遷移性弱, 作為固體潤滑劑的航空航天領域. 真空環(huán)境中得到廣泛的應用, 在2000℃真空環(huán)境中依然具有很低的摩擦因數.
隨著科技發(fā)展, 離子源技術引入物理氣相沉積技術, 用于工模具涂層材料制備, 一直是 PVD 涂層技術的研究熱點.
離子源在涂層制備過程中首先可以清洗襯底獲得清潔的表面, 其次高的離子/原子比率有利于獲得高性能的涂層.
某大型研究結構采用 KRI 射頻離子源用于研究離子源輔助制備MoS2 自潤滑涂層. 其系統(tǒng)示意圖如下:
其中 KRI 射頻離子源安裝在右側，左側為鉬靶, 真空泵安裝在真空腔體里側.
客戶采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了獲得穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s.
1. 大面積射頻離子源
2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求
3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求
4. 離子束流: >1500 mA
5. 離子動能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配
8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW
9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝
10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用
11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
運行結果：
KRI 射頻離子源 RFIC 380成功用于輔助制備MoS2自潤滑涂層, 對MoS2涂層有減膜作用,大大提高了MoS2涂層潤滑.
上海伯東是美國考夫曼公司 KRI 離子源的國內總代理商, 其中KRI 離子源主要型號有:
KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40
KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear
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