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在制備 TiN 薄膜過(guò)程中, 離子持續(xù)轟擊對(duì) TiN 薄膜的結(jié)構(gòu)和性能影響很大, 在離子持續(xù)轟擊作用下能夠獲得性能優(yōu)異的TiN薄膜.

為了獲取性能優(yōu)異的 TiN 薄膜, 國(guó)內(nèi)某制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 對(duì) TiN 薄膜進(jìn)行持續(xù)轟擊. 工作系統(tǒng)簡(jiǎn)單示意如下圖:

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：

美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合時(shí)間長(zhǎng)的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動(dòng)能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動(dòng)控制器, 一鍵自動(dòng)匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅(jiān)固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

應(yīng)用結(jié)果：

通過(guò)使用 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續(xù)轟擊 TiN 薄膜, 備的TiN 薄膜具有更致密的結(jié)構(gòu), 更光滑的表面, 更好的結(jié)晶性, 更優(yōu)異的機(jī)械性能和更好的腐蝕性能.

其使用前（左）和使用后（右）對(duì)比圖如下：

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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