Hakuto 全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 技術(shù)參數(shù):
Model |
MEL3100 |
Wafer size |
3"~6" |
Wafer per batch |
1 wafer |
Cassette No. |
25 wafers |
Cassette Q'ty |
1pc. |
Throughput |
10 (wafer/hr) *1 |
Pressure Ultimate |
8×10-5 (Pa) *2 |
Pressure Process |
2×10-2 (Pa) *2 |
Etching Rate |
>10 (nm/min)@SiO2 *3 |
Etching Unibity |
±5%@132mm (6") *3 |
Wafer surface temp. |
<100℃ *3 |
Stage rotating |
1~20 (rpm) ±5% |
Stage tilting |
±90°±0.5° |
*1: Estimated process time 5min |
|
*2: No wafer on stege / process chamber |
|
*3: Depending on process |
Hakuto 全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
1. 所有流程全自動(dòng)減少人工操作, 從而保證了產(chǎn)品的無(wú)差錯(cuò)、高穩(wěn)定性和高質(zhì)量
2. 盒式房間采用高效微粒過(guò)濾器
3. 采用高質(zhì)量的蝕刻考夫曼離子源, 保證良好的均勻性和高蝕刻率
4. 占用空間小
5. 傳輸系統(tǒng)采用了 SCARA 型機(jī)器人
6. 控制單元系統(tǒng)提供操作通過(guò)觸摸屏/ 10.4英寸, 數(shù)據(jù)記錄可以顯示在屏幕上
7. 高冷卻效果
8. 良好的重復(fù)性和再現(xiàn)性的旋轉(zhuǎn)和傾斜階段具有良好的可重復(fù)性利用脈沖電動(dòng)機(jī)
9. 容易維護(hù)這個(gè)系統(tǒng)設(shè)計(jì)重點(diǎn)是容易維護(hù)和用戶友好
10. 關(guān)鍵部件服務(wù)伯東的經(jīng)銷商是系統(tǒng)中的關(guān)鍵部件渦輪泵系統(tǒng)、離子源提供客戶快速響應(yīng)時(shí)間和本地服務(wù)能力,減少停機(jī)時(shí)間的工具
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