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產品簡介
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜
產品價格:¥1
上架日期:2021-01-22 14:33:52
產地:美國
發(fā)貨地:本地至全國
供應數(shù)量:不限
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詳細說明

    某傳感器制造商為了制備出具有高結晶度、大比表面積、排列規(guī)則的納米結構 WO3 薄膜經過對比選擇采用  KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射沉積設備鍍制 WO3 薄膜.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數(shù):

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

     

    氣體傳感器可以將被檢測氣體的種類、濃度等信息轉變?yōu)榭蓽y信號并將計算機與被檢測到的信號連接口相連接構成自動的監(jiān)控、檢測系統(tǒng)氧化鎢薄膜可以吸附各種氣體從而導致薄膜的電阻或光學參數(shù)的變化常常應用于氣體傳感器領域.

     

    KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現(xiàn)的.

     

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